對于真空鍍膜機(jī)設(shè)備的分類，到底了解多少？
真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜設(shè)備，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺鍍膜機(jī)射、
MBE分子束外延鍍膜機(jī)和PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)等很多種。

主要是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。
基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。

真空鍍膜機(jī)對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，
并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。

根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、
磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、離子鍍真空鍍膜設(shè)備、磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜設(shè)備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。
夾具運(yùn)轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)方式，用戶可根據(jù)片尺寸及形狀提出相應(yīng)要求，轉(zhuǎn)動(dòng)的速度范圍及轉(zhuǎn)動(dòng)精度：普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。