物理蒸鍍就是把物質加熱揮發，然后將其蒸氣沉積在預定的基材上。由于蒸發源須加熱揮發，又是在真空中進行，故亦稱為熱蒸鍍或真空蒸鍍。
其可分為三個步驟:
(1)凝態的物質被加熱揮發成汽相
(2)蒸汽在具空中移動一段距離至基材
(3)蒸汽在基材上冷卻凝結成薄膜
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其可分為三個步驟:
(1)凝態的物質被加熱揮發成汽相
(2)蒸汽在具空中移動一段距離至基材
(3)蒸汽在基材上冷卻凝結成薄膜